Matches in DBpedia 2016-04 for { <http://wikidata.dbpedia.org/resource/Q1478788> ?p ?o }
Showing triples 1 to 53 of
53
with 100 triples per page.
- Q1478788 subject Q7662241.
- Q1478788 subject Q8728791.
- Q1478788 subject Q9805826.
- Q1478788 abstract "Silicon on insulator (SOI) technology refers to the use of a layered silicon–insulator–silicon substrate in place of conventional silicon substrates in semiconductor manufacturing, especially microelectronics, to reduce parasitic device capacitance, thereby improving performance. SOI-based devices differ from conventional silicon-built devices in that the silicon junction is above an electrical insulator, typically silicon dioxide or sapphire (these types of devices are called silicon on sapphire, or SOS). The choice of insulator depends largely on intended application, with sapphire being used for high-performance radio frequency (RF) and radiation-sensitive applications, and silicon dioxide for diminished short channel effects in microelectronics devices. The insulating layer and topmost silicon layer also vary widely with application.".
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- Q1478788 wikiPageExternalLink soispecial.html.
- Q1478788 wikiPageExternalLink SOI.
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- Q1478788 wikiPageExternalLink index.htm.
- Q1478788 wikiPageExternalLink www.soiconsortium.org.
- Q1478788 wikiPageWikiLink Q1067845.
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- Q1478788 comment "Silicon on insulator (SOI) technology refers to the use of a layered silicon–insulator–silicon substrate in place of conventional silicon substrates in semiconductor manufacturing, especially microelectronics, to reduce parasitic device capacitance, thereby improving performance.".
- Q1478788 label "Silicon on insulator".
- Q1478788 depiction SIMOX_processing_schematic.svg.